Principles of plasma discharges and materials processing / Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg
| データ種別 | 図書 |
|---|---|
| 版 | 2nd ed |
| 出版者 | Hoboken, N.J. : Wiley-Interscience |
| 出版年 | c2005 |
| 本文言語 | 英語 |
| 大きさ | xxxv, 757 p. : ill. ; 25 cm |
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| 配架場所 | 巻 次 | 請求記号 | 資料番号 | 状 態 | コメント | ISBN | 予約 | 指定図書グループ |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 2F図書 (自然科学・技術・産業・芸術) |
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427.6||L62 | 9100102324 |
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0471720011 |
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| 一般注記 | Includes bibliographical references (p. 735-748) and index |
|---|---|
| 著者標目 | *Lieberman, M. A. (Michael A.) Lichtenberg, Allan J |
| 分 類 | LCC:QC718.5.D9 DC22:530.4/4 |
| 件 名 | LCSH:Plasma dynamics LCSH:Thin films -- Surfaces 全ての件名で検索 LCSH:Plasma etching LCSH:Plasma chemistry -- Industrial applications 全ての件名で検索 |
| 書誌ID | BB00050506 |
| ISBN | 0471720011 |
| NCID | BA72469354 |
