Plasma etching in semiconductor fabrication / Russ A. Morgan
(Plasma technology ; 1)
| データ種別 | 図書 |
|---|---|
| 出版者 | Amsterdam ; Tokyo : Elsevier |
| 出版年 | c1985 |
| 本文言語 | 英語 |
| 大きさ | 318 p : ill. ; 25 cm |
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| 配架場所 | 巻 次 | 請求記号 | 資料番号 | 状 態 | コメント | ISBN | 予約 | 指定図書グループ |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 2F図書 (自然科学・技術・産業・芸術) | 1 | 549.8||M12 | 9852433935 |
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0444424199 |
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| 積層4層 | 1 | 549.8||M12||(B) | 9852437883 |
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0444424199 |
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| 一般注記 | Includes bibliographical references and index |
|---|---|
| 著者標目 | *Morgan, Russ A., 1950- |
| 分 類 | LCC:TK7871.85 DC19:621.3815/2 |
| 件 名 | LCSH:Semiconductors -- Etching
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LCSH:Plasma etching |
| 書誌ID | BB00011788 |
| ISBN | 0444424199 |
| NCID | BA00003964 |
