プロセス ノ キソ
プロセスの基礎 / 西沢潤一編
(半導体研究 / 半導体研究振興会編 ; 20 . 超LSI技術 ; 7)
| データ種別 | 図書 |
|---|---|
| 出版者 | 東京 : 工業調査会 |
| 出版年 | 1983.8 |
| 本文言語 | 日本語 |
| 大きさ | 394p ; 27cm |
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| 配架場所 | 巻 次 | 請求記号 | 資料番号 | 状 態 | コメント | ISBN | 予約 | 指定図書グループ |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 2F図書 (自然科学・技術・産業・芸術) |
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549.8||H6||20 | 9200310911 |
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4769310323 |
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| 一般注記 | 各章末:参考文献 |
|---|---|
| 著者標目 | 西澤, 潤一(1926-) <ニシザワ, ジュンイチ> |
| 分 類 | NDC8:549 NDLC:ND371 |
| 件 名 | NDLSH:半導体 |
| 書誌ID | BB00030271 |
| ISBN | 4769310323 |
| NCID | BN00282815 |
