プロセス ノ テイオンカ
プロセスの低温化 / 西澤潤一編
(半導体研究 / 半導体研究振興会編 ; 21巻 . 超LSI技術 ; 8)
データ種別 | 図書 |
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出版情報 | 東京 : 工業調査会 , 1985.3 |
本文言語 | 日本語 |
大きさ | 10,331p ; 27cm |
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配架場所 | 巻 次 | 請求記号 | 資料番号 | 状 態 | コメント | ISBN | 予約 | 指定図書グループ |
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2F図書 (自然科学・技術・産業・芸術) |
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549.8||H6||21 | 9200310922 |
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4769310439 |
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一般注記 | 執筆:石川潔ほか 各章末:参考文献 |
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著者標目 | 西澤, 潤一(1926-) <ニシザワ, ジュンイチ> |
分 類 | NDC8:549 NDLC:ND371 |
件 名 | NDLSH:半導体 |
書誌ID | BB00030270 |
ISBN | 4769310439 |
NCID | BN00282757 |