Chapman, Brian N.

著者名典拠詳細を表示

著者の属性 個人
一般注記 Leaver, K. D. Thin films, 1971
b. 5/21/42
から見よ参照 Chapman, B. N.
コード類 典拠ID=AU00005227  NCID=DA00387104
1 プラズマプロセシングの基礎 / Brian N. Chapman著 ; 岡本幸雄訳 東京 : 電気書院 , 1985.11
2 Glow discharge processes : sputtering and plasma etching / Brian Chapman est.. - New York : Wiley , 1980
3 金属の薄膜 / カイス・リーヴァー, ブレイン・チャップマン著 ; 平田邦男訳 東京 : 共立出版 , 1975.10