ニシザワ, ジュンイチ
西澤, 潤一(1926-)
著者名典拠詳細を表示
| 著者の属性 | 個人 |
|---|---|
| 場所 | 仙台 |
| 一般注記 | 東北大学名誉教授, 日本学士院会員 財団法人半導体研究振興会常務理事, 1979 出生地の追加は共編書「日本の半導体開発」(1993,工業調査会)のカバーの記述より。 闘う独創技術 / 西沢潤一, 猿賀俊文著(日刊工業新聞社, 1986.8) |
| Dates of Birth and Death | 1926 |
| から見よ参照 | 西沢, 潤一<ニシザワ, ジュンイチ> Nishizawa, Jun'ichi Nisizawa, Zyun'iti |
| コード類 | 典拠ID=AU00001185 NCID=DA00235944 |
| 1 | なぜ完全結晶を追究するのか : 結晶の制御からオプトエレクトロニクスへ / 西澤潤一, 餌取章男著 東京 : 三田出版会 , 1996.7 |
| 2 | 教育の目的再考 / 西澤潤一著 東京 : 岩波書店 , 1996.4 |
| 3 | 「技術大国・日本」の未来を読む : 繁栄を続けるための5つの直言 / 西沢潤一著 東京 : PHP研究所 , 1989.9 |
| 4 | デバイスとプロセス / 西澤潤一編 [その1] - その14. - 東京 : 工業調査会 , 1987.8- |
| 5 | 化合物半導体の結晶成長と評価 / 西澤潤一編 [その1] - その8. - 東京 : 工業調査会 , 1986.8- |
| 6 | 超LSI回路とプロセス / 西澤潤一編 東京 : 工業調査会 , 1986.8 |
| 7 | 西澤潤一の独創開発論 / 西澤潤一著 東京 : 工業調査会 , 1986.2 |
| 8 | 化合物半導体の結晶成長と完全性 / 西澤潤一編 東京 : 工業調査会 , 1985.8 |
| 9 | プロセスの低温化 / 西澤潤一編 東京 : 工業調査会 , 1985.3 |
| 10 | プロセスの基礎 / 西沢潤一編 東京 : 工業調査会 , 1983.8 |
| 11 | LSIの将来技術 / 西澤潤一編 東京 : 工業調査会 , 1982.5 |
| 12 | プロセス評価 / 西澤潤一編 東京 : 工業調査会 , 1981.6 |
| 13 | 半導体プロセス / 西澤潤一編 [その1],その2,その3. - 東京 : 工業調査会 , 1979.8-1985.8 |
| 14 | 回路設計 / 西澤潤一編著 東京 : 工業調査会 , 1978.4 |
| 15 | オプトエレクトロニクス / 西澤潤一著 東京 : 共立出版 , 1977.8 |
| 16 | 半導体中における光過程 / Jacques I.Pankove [著] ; 西沢潤一 [ほか] 訳 東京 : 近代科学社 , 1974.8 |
| 17 | エレクトロルミネセンス / H.K.ヘニッシュ著 ; 和田正信, 西沢潤一, 宮下和雄共訳 東京 : コロナ社 , 1963.10 |
| 18 | 半導体装置 / 西沢潤一著 東京 : 近代科学社 , 1961.3 |
| 19 | 電子物性論入門 / 西沢潤一著 東京 : 共立出版 , 1960 |
| 20 | 半導体工学シリーズ / 西澤潤一編 東京 : 培風館 |
| 21 | 電気・電子・情報工学基礎講座 / 清水洋 [ほか] 編集 東京 : 朝倉書店 |