フルカワ, セイジロウ
古川, 静二郎(1934-)
著者名典拠詳細を表示
著者の属性 | 個人 |
---|---|
場所 | 函館 |
一般注記 | 東京工業大学 ULSIプロセスの基礎技術, 1991: 執筆者一覧 半導体デバイス EDSRC:電子デバイス工学 / 古川静二郎, 荻田陽一郎, 浅野種正共著(森北出版, 1990.3): 奥付の記述(函館市生)によるPLACEの追加。 |
Dates of Birth and Death | 1934 |
コード類 | 典拠ID=AU20043846 NCID=DA00241925 |
1 | シリコン系ヘテロデバイス / 古川静二郎, 雨宮好仁編著 東京 : 丸善 , 1991.7 |
2 | ULSIプロセスの基礎技術 / 古川静二郎編 ; 石原健 [ほか] 共著 東京 : 丸善 , 1991.3 |
3 | 半導体デバイス / 古川静二郎執筆 東京 : コロナ社 , 1982.10 |
4 | 電子デバイス / 古川静二郎, 松村正清共著 1,2. - 東京 : 昭晃堂 , 1979.11-1980 |
5 | 電気磁気学演習 / 末松安晴, 古川静二郎共著 東京 : オーム社 , 1964.7 |